电子光学行业对于产品质量和环境要求十分严格，因此在电子光学厂房的设计和建设中，净化工程起着关键的作用。电子光学厂房净化工程具有以下特点：
1、高洁净要求：电子光学厂房净化工程对洁净度的要求非常高。电子光学产品对微小颗粒和尘埃极为敏感，因此需要控制环境中的颗粒物浓度和微生物水平。常见的洁净度等级包括ISO 14644中的Class 5、Class 6或Class 7，以及美国联邦标准209E中的Class 100、Class 1000或Class 10,000。为达到这些要求，电子光学厂房净化工程采用多种净化技术，如高效过滤器、负压排风系统和超净室技术。
2、精确空气流动控制：电子光学厂房净化工程需要实现精确的空气流动控制。这包括对气流速度、方向和均匀性的精确控制。准确的气流控制有助于防止空气中的颗粒物和污染物沉积在产品表面，从而确保产品的质量和稳定性。为实现精确的空气流动控制，可以采用风扇过滤器单元（FFU）和调节风机等设备，通过调节风速和方向来满足特定的要求。
3、静电控制：电子光学厂房净化工程需要采取措施来控制静电的产生和积累。静电对电子光学产品的生产和测试过程可能会产生干扰和损害。为了解决这个问题，可以采用防静电地板、导电涂层、接地系统和防静电装置等措施，以有效控制静电的产生和传导，保护产品的完整性.
4、低挥发性有机物（VOC）控制：电子光学厂房净化工程需要控制挥发性有机物的排放，以防止对产品和环境的污染。电子光学产品的制造和测试过程中使用的材料和清洁剂可能会释放挥发性有机物。为降低挥发性有机物的排放，可以选择低挥发性材料和清洁剂，并确保厂房内的通风和排气系统正常运行。
5、温度和湿度控制：电子光学产品对温度和湿度的敏感性较高，因此电子光学厂房净化工程通常需要实施严格的温湿度控制。恒温恒湿的环境可以确保产品的性能和稳定性，并提供适宜的工作环境。为实现温湿度控制，可以使用恒温恒湿设备、湿度传感器和控制系统等。
电子光学厂房净化工程是为了满足电子光学产品对洁净环境的严格要求而进行的专门工程。通过高洁净度要求、精确空气流动控制、静电控制、低挥发性有机物控制以及温湿度控制等措施，电子光学厂房净化工程能够提供一个优化的环境，确保电子光学产品的质量和稳定性。